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防腐型HMDS真空烘箱 HMDS耐腐蝕預(yù)處理系統(tǒng) 用于在納米壓印光刻中在脫模期間降低表面粘附力。脫模劑全氟癸基三氯硅烷FDTS或全氟辛基三氯硅烷PFTS.?廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、醫(yī)藥等領(lǐng)域,如用作半導(dǎo)體器件的防潮、光學(xué)器件的防污等。
產(chǎn)品型號(hào):
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間:2026-03-31
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防腐型HMDS真空烘箱 HMDS耐腐蝕預(yù)處理系統(tǒng)的特殊性
用于在納米壓印光刻中在脫模期間降低表面粘附力。脫模劑全氟癸基三氯硅烷FDTS或全氟辛基三氯硅烷PFTS.
用硅 烷 偶聯(lián)劑(如HMDS/KH550、FDTS、PFTS、OTS),廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、醫(yī)藥等領(lǐng)域,如用作半導(dǎo)體器件的防潮、光學(xué)器件的防污等。
防腐型HMDS真空烘箱 HMDS耐腐蝕預(yù)處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)
真空性能:極限真空50pa(可定制)
產(chǎn)品處理空間:20-3000L支持定制)
防腐配置:防腐型HMDS真空烘箱采用防腐型材料內(nèi)腔,防腐專用真空泵,防腐專用閥門。
溫控性能:200/400℃,±0.5℃波動(dòng)度
真空性能:極限真空50pa(可定制)
操控方式:配置進(jìn)口精密PID智能溫控器、彩色觸摸屏人機(jī)界面+PLC,
配方性能:5組配方儲(chǔ)存,可實(shí)施修改編輯,可擴(kuò)展多配方
產(chǎn)品兼容性:1-12晶圓及方片、藍(lán)寶石、1000*1000mm玻璃、面板、陶瓷纖維板材及各種卷材,20-3000L支持定制。
儲(chǔ)液瓶:25-1000ml儲(chǔ)液瓶
真空泵:防腐專用無(wú)油渦旋真空泵
數(shù)據(jù)處理:數(shù)據(jù)可記錄、MES通訊、上位機(jī)連接等
功能:去水烘烤、(抗抗劑)偶聯(lián)劑涂布、蒸鍍固化、廢氣排放工藝基于一體。
更多用途,半導(dǎo)體制造/納米壓印光電面板處理/陶瓷新材料/納米多孔陶瓷材料/碳纖維材料/碳化硅材料等新型復(fù)合材料。
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